KCI등재
저온 상압 플라즈마 표면처리 시 power 변화에따른 RGP렌즈 표면성질 연구 = A Study on the Surface Properties of RGP Lens by Changing Power in Low-temperature Atmospheric-pressure Plasma Surface Treatment
저자
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2018
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
491-496(6쪽)
KCI 피인용횟수
1
DOI식별코드
제공처
Purpose: This study was conducted to observe the surface properties of an RGP lens based on power changes by a plasma torch at a low temperature and under atmospheric pressure. Methods: A lens bar with a diameter of 13 mm and length of 300 mm was cut flatly to a thickness of 3 mm and polished by a grinder. Subsequently, a plasma treatment was performed by changing the power to 200, 250, 300, 350, and 400 W, using an atmospheric plasma power source, which was injected with air. The contact angle and transmittance of the RGP lens were measured, and XPS was used to observe the change of the RGP lens surface composition. Results: When the plasma was treated at 200 W, the contact angle was reduced to 31.3° as compared to the case without the plasma treatment. It was seen that the contact angle decreased slightly as the power increased from 250 to 400 W, by steps of 50 W, which was due to an increase of the hydrophilic O-C=O from the XPS analysis. The average transmittance of the plasma treatment at 200 W was not significantly different from that without the plasma treatment, but it decreased gradually as the power increased beyond 250 W. Conclusions: As the power applied to the plasma increased, the contact angle on the surface of the RPG lens became smaller, and the transmittance of the lens decreased slightly. The decrease in the contact angle was due to an increase of hydrophilic molecules on the surface of the RGP lens.
더보기목적: RGP 렌즈 위에 플라즈마 처리를 power 변화에 따라 RGP 렌즈의 물성 변화를 관찰하고자 하였다. 방법: 지름이 13 mm이고 길이가 300 mm인 렌즈 봉을 3mm의 두께로 편평하게 자른 후 연마기로 연마하였다. 그 후 저온 상압 플라즈마 전원 장치를 이용하여 가스는 공기를 주입시키고 power를 200 W, 250 W, 300 W, 350 W, 400 W로 변화시켜가며 플라즈마 처리를 하였다. RGP 렌즈의 접촉각과 투과율을 측정하였고, 표면의 성분 변화를 관찰하기 위해 XPS 분석을 하였다. 결과: 200 W로 플라즈마를 처리했을 때 접촉각이 플라즈마 처리를 하지 않았을 경우와 비교하여 31.3°로 많이 줄었다. 그 후 250 W에서 50 W씩 증가하여 400 W까지 power가 증가함에 따라 접촉각이 조금씩 감소하는 것은 XPS분석으로부터 친수기인 O-C=O가 증가하기 때문이라는 것을 알 수 있다. 200 W로플라즈마 처리를 했을 경우의 평균투과율이 플라즈마 처리를 하지 않았을 경우의 평균투과율에 비해 큰 변화가 없으나 250 W 이상에서 power가 점점 커짐에 따라 평균투과율이 점점 감소함을 알 수 있었다. 결론: 플라즈마 power 가 커짐에 따라 RPG 렌즈 표면이 접촉각이 점점 작아지고 투과율이 조금씩 떨어짐을 알 수 있었다. 플라즈마 power 가 커짐에 따라 접촉각이 작아지는 현상은 플라즈마 처리로 인해 RGP 렌즈 표면에 친수성 분자가 증가하기 때문에 나타난다고 여겨진다.
더보기분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2022 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2019-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2016-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (계속평가) | KCI등재 |
2012-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2008-01-17 | 학회명변경 | 영문명 : The Korean Ophalmic Optics Society -> The Korean Ophthalmic Optics Society | KCI후보 |
2008-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2006-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.62 | 0.62 | 0.53 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.58 | 0.58 | 0.691 | 0.17 |
서지정보 내보내기(Export)
닫기소장기관 정보
닫기권호소장정보
닫기오류접수
닫기오류 접수 확인
닫기음성서비스 신청
닫기음성서비스 신청 확인
닫기이용약관
닫기학술연구정보서비스 이용약관 (2017년 1월 1일 ~ 현재 적용)
학술연구정보서비스(이하 RISS)는 정보주체의 자유와 권리 보호를 위해 「개인정보 보호법」 및 관계 법령이 정한 바를 준수하여, 적법하게 개인정보를 처리하고 안전하게 관리하고 있습니다. 이에 「개인정보 보호법」 제30조에 따라 정보주체에게 개인정보 처리에 관한 절차 및 기준을 안내하고, 이와 관련한 고충을 신속하고 원활하게 처리할 수 있도록 하기 위하여 다음과 같이 개인정보 처리방침을 수립·공개합니다.
주요 개인정보 처리 표시(라벨링)
목 차
3년
또는 회원탈퇴시까지5년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한3년
(「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한2년
이상(개인정보보호위원회 : 개인정보의 안전성 확보조치 기준)개인정보파일의 명칭 | 운영근거 / 처리목적 | 개인정보파일에 기록되는 개인정보의 항목 | 보유기간 | |
---|---|---|---|---|
학술연구정보서비스 이용자 가입정보 파일 | 한국교육학술정보원법 | 필수 | ID, 비밀번호, 성명, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야, 웹진메일 수신동의 여부 | 3년 또는 탈퇴시 |
선택 | 소속기관명, 소속도서관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 휴대전화, 주소 |
구분 | 담당자 | 연락처 |
---|---|---|
KERIS 개인정보 보호책임자 | 정보보호본부 김태우 | - 이메일 : lsy@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0439 - 팩스번호 : 053-714-0195 |
KERIS 개인정보 보호담당자 | 개인정보보호부 이상엽 | |
RISS 개인정보 보호책임자 | 대학학술본부 장금연 | - 이메일 : giltizen@keris.or.kr - 전화번호 : 053-714-0149 - 팩스번호 : 053-714-0194 |
RISS 개인정보 보호담당자 | 학술진흥부 길원진 |
자동로그아웃 안내
닫기인증오류 안내
닫기귀하께서는 휴면계정 전환 후 1년동안 회원정보 수집 및 이용에 대한
재동의를 하지 않으신 관계로 개인정보가 삭제되었습니다.
(참조 : RISS 이용약관 및 개인정보처리방침)
신규회원으로 가입하여 이용 부탁 드리며, 추가 문의는 고객센터로 연락 바랍니다.
- 기존 아이디 재사용 불가
휴면계정 안내
RISS는 [표준개인정보 보호지침]에 따라 2년을 주기로 개인정보 수집·이용에 관하여 (재)동의를 받고 있으며, (재)동의를 하지 않을 경우, 휴면계정으로 전환됩니다.
(※ 휴면계정은 원문이용 및 복사/대출 서비스를 이용할 수 없습니다.)
휴면계정으로 전환된 후 1년간 회원정보 수집·이용에 대한 재동의를 하지 않을 경우, RISS에서 자동탈퇴 및 개인정보가 삭제처리 됩니다.
고객센터 1599-3122
ARS번호+1번(회원가입 및 정보수정)