KCI등재후보
SCOPUS
음극가열전류 및 가속전압이 저압 전자빔 플라즈마에 미치는 영향 연구 = E ects of the Cathode Current and the Anode Voltage on Low-Pressure Electron-Beam Plasmas
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2003
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KCI등재후보,SCOPUS
자료형태
학술저널
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421-425(5쪽)
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A plasma source using cw e-beams of low energies has been
constructed, and the effects of the cathode current(21 $\sim$ 25
A) and the anode voltage(40 $\sim$ 80 V) on the plasma density and
the electron temperature
have been studied. Argon gas was used for plasma generation at a low pressure of 5 mTorr.
Measurements were performed at axial positions of 5 cm, 10 cm and
15 cm from the cathode by using a Langmuir probe. The plasma
density was found to increase with the cathode current and the
anode voltage. The plasma density at 5 cm was found to have a
large value compared with that at 10 cm, and the densities at 10
cm and 15 cm were found to be almsot the same. The electron
temperature was measured to be about 1.2 eV and did not depend
very much on the cathode current, the anode voltage, or the probe
position.
저에너지의 전자빔을 이용하는 직류형 플라즈마 소스를 제작하여, 음극가열전류(21 $\sim$ 25 A)와 가속전압(40 $\sim$ 80 V)의
변화가 플라즈마의 밀도와 전자온도에 미치는 영향을 연구하였다. 플라즈마 반응기체로는 아르곤(Ar)을 사용하였으며,
방전시 챔버 내부압력은 5 mTorr로 고정하였다. 음극에서 축을 따라 5 cm, 10 cm, 15 cm 위치한 곳에서 Langmuir 탐침을
이용하여 측정하였다. 가열전류와 가속전압의 증가에 따라 플라즈마의 밀도가 증가하는 것을 확인하였다. 5 cm의 위치에서
측정된 플라즈마의 밀도가 가장 큰 값을 나타냈으며, 10 cm와 15 cm에서의 밀도 사이에는 큰 차이가 없었다.
전자의 온도는 음극가열전류, 가속전압 및 측정위치에 크게 의존하지 않았으며, 약 1.2 eV로 매우 낮은 값을 나타냈다.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
---|---|---|---|
2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2016-09-05 | 학술지명변경 | 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
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