KCI등재
전해생성(電解生成)된 염소(鹽素)에 의한 구리의 침출(浸出) 거동(擧動) = Leaching behavior of copper using electro-generated chlorine in hydrochloric acid solution
저자
김은영 (과학기술연합대학원대학교) ; 김민석 (한국지질자원연구원) ; 이재천 (한국지질자원연구원) ; 정진기 (한국지질자원연구원) ; Kim, Eun-Young ; Kim, Min-Seuk ; Lee, Jae-Chun ; Jung, Jin-Ki
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학술지명
권호사항
발행연도
2006
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
33-40(8쪽)
제공처
폐 PCBs중 구리의 효율적이고 친환경적인 회수기술을 개발하려는 목적으로, 염산 용액 내에서 전해 생성된 염소를 이용하여 구리의 침출거동에 관한 연구를 수행하였다. 염산농도 1M, 교반속도 400 rpm, 용액온도 $25^{\circ}C$, 전류밀도 $10mA/cm^2$에서 전해 생성된 염소의 반응초기(구리이온 농도<3.6g/L) 침출반응 이용효율은 거의 100% 이었다 침출의 진행으로 용액 내 구리 이온의 농도가 3.6g/L에 도달하면 전기화학적 산화종이 $Cl^-$에서 침출반응으로부터 생성된 $Cu^+$ 이온으로 바뀌어 전극 전위의 급격한 감소가 관찰되었다. 또한 1M염산 침출 용액 내 구리 이온의 농도가 CuCl의 용해도 한계인 5.2g/L에 도달하면 침출속도가 초기침출속도보다 약 0.5배정도 감소하였다. CuCl의 용해도 한계가 높은 $Cl^-$의 농도가 3M인 조건에서는 이러한 침출속도의 감소가 일어나지 않았으며 이는 구리 표면에 $CuCl_{(s)}$층 생성이 침출반응에 큰 영향을 주는 것을 의미한다.
더보기Leaching behavior of copper using electro-generated chlorine was investigated in hydrochloric acid solutions. When leached copper concentration was lower than 3.6g/L, the utilization efficiency of the electro-generated chlorine was close to 100% at $10mA/cm^2,\;25^{\circ}C$, 400 rpm in 1M HCl solutions. The concentration ot the leached copper over 3.6g/L caused the electrode potential to drop quietly, leading to a change or leaching mechanism. The leaching rate oi copper began to decrease at the concentration of copper 5.2g/L. This is probably due to the formation of a layer of CuCl on Cu metal in 1M HCl solutions. The leaching rate, however, was not retarded in a solution ot high chloride concentration. The high solubility of CuCl in the solution may prevent the formation of CuCl on Cu metal.
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