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Ti 금속 박막과 Al2O3 기판 사이에 형성된 계면 특성 = The Characteristics of Interface Layers between Ti Metal Film Al2O3 Substrate
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2005
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Korean
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KCI등재,SCOPUS
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232-237(6쪽)
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We have fabricated Ti metal lms on Al2O3 substrates by using DC magnetron sputtering method at dierent DC powers (1.5, 2.0 and 2.5 kW) in high vacuum (10က5 Torr), and we investigated the lms' scratch and resistivities. The thicknesses, the surface and the cross-sectional images of the Tilms were observed by using scanning electron microscopy (SEM). The crystallinity of the lms was conrmed by using X-ray diraction (XRD). The SEM images conrmed the existence of interface
layers between the Ti lms and the Al2O3 substrates. Energy dispersive spectroscopy (EDS) showed that the interface layers contained elemental Ti and Al, as well as TiO, Ti3Al, and TiAl3 compounds.
The compounds were formed by interactions of al and O ions that had diused from the Al2O3 substrate with the Ti atoms in the Ti lms. This phenomenon could be explained by the diusion velocity of the Al and the O ions being enhanced due to gains in their thermal energies as a result
of the DC power for sputtering the lms on to the Al2O3 substrates being DC power increased.
The adhesion strength was enhanced because the lattice mismatch between the hexagonal phase of the Ti lm and the tetragonal phase of the Al2O3 substrate was alleviated by the formation of
interface layers containing TiAl3 with a tetragonal phase and Ti2Al with a hexagonal phase. The electric resistivity of the Ti lms was not aected by the variation in the DC power.
분석정보
연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2023 | 평가예정 | 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가) | |
2020-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) | KCI등재 |
2016-09-05 | 학술지명변경 | 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2009-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2007-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2003-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2002-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) | KCI후보 |
1999-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.18 | 0.18 | 0.17 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.15 | 0.14 | 0.3 | 0.1 |
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