KCI등재
SCI
SCIE
SCOPUS
Development of High-current Pulsed Heavy-ion-beam Technology for Applications to Materials Processing
저자
Hiroaki Ito (University of Toyama) ; Yasushi Ochiai (University of Toyama) ; Katsumi Masugata (University of Toyama)
발행기관
학술지명
권호사항
발행연도
2011
작성언어
English
주제어
등재정보
KCI등재,SCI,SCIE,SCOPUS
자료형태
학술저널
수록면
3652-3656(5쪽)
KCI 피인용횟수
2
제공처
Development of intense pulsed heavy ion beam technology for the application of materials processing is described. We have developed a magnetically insulated ion diode for the generation of intense pulsed metallic ion beams in which the vacuum arc plasma gun is used as the ion source. When the ion diode was successfully operated at a diode voltage of 220 kV and a diode current of 10 kA, the ion beam with an ion current density of > 200 A/cm^2 and a pulse duration of 40 ns was obtained The ion composition was evaluated by a Thomson parabola spectrometer and the ion beam consists of aluminum ions (Al^((1-3)+)) of energy 140-740 keV and protons of energy 160-190 keV, and the purity was estimated to be 89 %, which is much higher than that of the pulsed ion beam produced in the conventional ion diode.The development of the bipolar pulse accelerator (BPA) was reported in order to improve the purity of intense pulsed ion beams. A double coaxial type bipolar pulse generator was developed as the power supply of the BPA. By applying the bipolar pulse with a voltage of ±90 kV and a pulse duration of about 65 ns to the drift tube of the BPA, the ion beam with an ion current density of 2 A/cm^2 and a pulse duration of 30 ns was observed at 25 mm downstream from the cathode surface, which suggests the bipolar pulse acceleration.
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기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.47 | 0.15 | 0.31 |
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