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친환경 수계 박리액의 유동박리 공정 특성 및 청정성 연구
저자
이기성(Ki-Seong Lee) ; 이재원(Jaeone Lee) ; 김용성(Young Sung Kim) 연구자관계분석
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2018
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Korean
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175-182(8쪽)
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1
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본 연구에서는 유동박리공정에서 개발된 수계박리액의 수분함유량의 최적화를 통한 청정성을 연구하였다. 감광제 박리 특성을 상용 유기계 박리액과 비교 고찰하였다. 박리성능은 감광제의 패터닝 전 투명전극샘플과 코팅된 샘플을 박리 한 후의 투명전극표면에서의 전기 및 광학적 특성의 평가를 통해 비교 하였다. 상용화된 유기계 박리액과 수분함유량이 최적화된 수계 박리액의 감광제박리 공정 결과 수계박리액이 유기계 박리액보다 동등 이상의 우수한 전기 및 광학적 특성 결과를 나타내었다. 유동 박리공정에서 유기계 박리액은 박리 중 감광제가 용해되어 박리액내부로 용해가 된 반면, 개발 중인 수계박리액은 용제에 포함된 cyclodextrin에 의한 감광제 포집으로 박리액의 감광제 용해 감소의 효과가 나타난 것으로 판단된다. 이러한 박리 메커니즘의 차이에 의한 박리공정 후 유기계와 수계 박리액의 청정성을 비교 분석하였다.
더보기In this research, we investigated the cleanliness by optimizing the water content of the aqueous stripper in fluidic strip process. The stripping properties of the photoresist with optimized aqueous stripper were compared with the commercial organic stripper. The stripping performance was evaluated by electrical and optical characteristics on the surface of the transparent electrode that compare with stripped the transparent electrode surface and the rare surface before patterning by the photoresist. As a result of the photoresist stripping process of the organic stripper and the aqueous stripper optimized for water content, the aqueous stripper exhibited better electrical and optical characteristics than the organic stripper. In the case of the fluidic strip process with organic stripper, the photoresist dissolves in the stripper solution during stripping which can cause re-adsorption by contamination. Whereas that the aqueous stripper under development seems to decrease the photoresist dissolution in the stripper solution. Because the cyclodextrin contained in the stripper captures organic photoresist into hall of cyclodextrin which stripped through swelling and tearing. The photoresist residue captured by the cyclodextrin can be filtered. After the fluidic stripping process by different chemical stripping mechanism, the cleanliness of the organic stripper and aqueous stripper was compared and analyzed.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2027 | 평가예정 | 재인증평가 신청대상 (재인증) | |
2021-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (재인증) | KCI등재 |
2018-11-01 | 학술지명변경 | 한글명 : 청정기술 -> Clean Technology외국어명 : CLEAN TECHNOLOGY -> Clean Technology | KCI등재 |
2018-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2015-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2011-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
2007-07-04 | 학술지명변경 | 한글명 : 한국청정기술학회지 -> 청정기술 | KCI후보 |
2007-01-01 | 평가 | 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) | KCI후보 |
2005-01-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
---|---|---|---|
2016 | 0.26 | 0.26 | 0.25 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.29 | 0.28 | 0.4 | 0.1 |
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