KCI등재
OES를 이용한 질화막/산화막의 식각 스펙트럼 데이터 분석 = Nitride/Oxide Etch Spectrum Data Verification by Using Optical Emission Spectroscopy
저자
박수경 (명지대학교) ; 강동현 (명지대학교) ; 한승수 (명지대학교) ; 홍상진 (명지대학교) ; Park, Soo-Kyoung ; Kang, Dong-Hyun ; Han, Seung-Soo ; Hong, Sang-Jeen
발행기관
학술지명
전기전자재료학회논문지(Journal of the Korean institute of electrical and electronic material engineers)
권호사항
발행연도
2012
작성언어
Korean
주제어
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면
353-360(8쪽)
KCI 피인용횟수
0
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제공처
As semiconductor device technology continuously shrinks, low-open area etch process prevails in front-end etch process, such as contact etch as well as one cylindrical storage (OCS) etch. To eliminate over loaded wafer processing test, it is commonly performed to emply diced small coupons at stage of initiative process development. In nominal etch condition, etch responses of whole wafer test and coupon test may be regarded to provide similar results; however, optical emission spectroscopy (OES) which is frequently utilize to monitor etch chemistry inside the chamber cannot be regarded as the same, especially etch mask is not the same material with wafer chuck. In this experiment, we compared OES data acquired from two cases of etch experiments; one with coupon etch tests mounted on photoresist coated wafer and the other with coupons only on the chuck. We observed different behaviors of OES data from the two sets of experiment, and the analytical results showed that careful investigation should be taken place in OES study, especially in coupon size etch.
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연월일 | 이력구분 | 이력상세 | 등재구분 |
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2008-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2006-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2005-05-30 | 학회명변경 | 영문명 : 미등록 -> The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers | KCI등재 |
2004-01-01 | 평가 | 등재학술지 유지 (등재유지) | KCI등재 |
2001-01-01 | 평가 | 등재학술지 선정 (등재후보2차) | KCI등재 |
1998-07-01 | 평가 | 등재후보학술지 선정 (신규평가) | KCI후보 |
기준연도 | WOS-KCI 통합IF(2년) | KCIF(2년) | KCIF(3년) |
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2016 | 0.13 | 0.13 | 0.13 |
KCIF(4년) | KCIF(5년) | 중심성지수(3년) | 즉시성지수 |
0.14 | 0.14 | 0.247 | 0.06 |
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