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    Study on the effect of patterned intermediate layer on CZTSSe absorber formation : CZTSSe 흡수층 형성에 대한 패턴된 중간층의 영향에 관한 연구

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    화석연료 고갈과 환경오염의 심화로 신재생에너지의 개발이 필수적이며 온실가스 감축에 큰 기후변화 대응 기술로 태양 전지의 비중이 급속도로 증가되고 있다. 현재 상용화된 실리콘 기반의 태양전지는 높은 생산단가와 플렉시블 적용 등의 한계에 직면하여 화합물 기반의 태양전지로 CIGS 연구가 활발하게 진행되었지만 CIGS의 경우 구성물질의 독성, 희소성의 이유로 In, Ga을 대체한 CZTSSe 태양전지가 최근 각광을 받고 있다. CZTSSe 태양전지는 I2-II-IV-VI4 4성분계 화합물 구조를 가지는 CZTS(Cu2ZnSnS4), CZTSe(Cu2ZnSnSe4), CZTSSe(Cu2ZnSn(SxSe4-x))를 의미한다. 2014년 IBM에서는 hydrazine 방법으로 12.6%의 최고 효율을 보고하였지만 hydrazine solution process은 용액기반 공정으로 관리가 힘들고 폭발위험이 있으며 대량 생산에 한계가 있다. 이에 metal precursor를 이용한 2-step sputtering process를 이용한 연구가 활발히 수행되고 있다. 최근 DGIST에서는 2-step sputtering process으로 12.6%의 최고 효율을 보고하였다. 대량생산에 적합한 공정이라는 장점도 있지만 metal precursor를 이용한 2-step sputtering process 역시 CZTSSe 흡수층의 이중 생성, secondary phases 및 void 생성 등 흡수층의 불안정성과 Mo 후면전극 계면에서의 결함으로 현재 실리콘 태양전지 및 CIGS 태양전지 효율에 도달하지 못한 상황이다. 본 연구에서는 metal precursor를 사용하는 CZTSSe 흡수층의 생성 메커니즘을 파악하여 효율에 치명적인 secondary phases와 void를 제어할 수 있는 방법과 패턴된 중간층이 CZTSSe 태양전지 효율에 미치는 영향에 대해 연구하고자 한다. 선행연구된 CZTSSe 흡수층의 생성 메커니즘을 기반으로 후면전극으로 사용되는 Mo 위에 중간층을 적용하여 Mo 후면전극과 CZTSSe 흡수층 사이 생성된 secondary phases과 void의 거동을 비교 실험하였다. Mo 후면전극과 CZTSSe 흡수층과의 wetting property를 비교 검증하기 위해 Mo 후면전극 위 상태를 4가지로 구분하여 liquid metal과의 기판과의 wetting property 실험을 실시하고 liquid metal과 기판과의 wetting property에 따라 secondary phases과 void의 생성 여부를 확인하였다. 실험에 사용된 CZTSSe 태양전지는 소다라임 유리기판 위에 후면전극으로 600 nm 두께의 Mo를 스퍼터링으로 증착하고 약 1.8 um 두께의 CZTSse 흡수층은 3가지 metal precursor를 순차적으로 스퍼터링 증착 후 급속열처리장비로 sulfo-selenization annealing을 통해 구현하였다. chemical bath deposition 방법으로 50 nm 두께의 CdS 박막을 증착하고 50 nm 두께의 intrinsic ZnO 박막을 스퍼터링으로 증착하였다. 300 nm 두께의 Al-doped ZnO(AZO) 박막을 스퍼터링으로 증착한 후, 10 nm 두께의 Ni과 2 um 두께의 Al grid를 e-beam evaporation 방법으로 증착하였고 마지막으로 anti-reflection 용도로 100 nm의 MgF2 박막을 e-beam evaporation으로 증착하여 CZTSSe 태양전지 제작을 완료하였다. CZTSSe 흡수층과 Mo 후면전극 사이에는 중간층으로서 Al2O3 박막을 sputtering과 플라즈마 원자층 증착장비(PE—ALD)로 증착하였다. 두께는 ALD로 1-5 nm, 스퍼터링으로 130 nm로 다양하게 증착하였다. 패터닝은 일반적인 Photo-lithography 방법을 이용하였고 Al2O3 박막은 BoE 용액으로 습식 식각하였다. 패터닝에 의한 Open ratio, 즉, 후면전극 Mo와 CZTSSe 흡수층이 직접 접하는 영역은 11%에서 60%로 다양하게 구분하였으며 패턴 모양도 line 형태와 Square 형태로 구분하였다. FE-SEM과 FE-TEM을 통해 이미징을 얻었으며 EDS 이미징 분석을 통해 원소 분석을 수행하였다. 흡수층 내 정확한 성분분석을 위해 ToF-SIMS 분석을 실시하였다. 태양전지의 전기적 특성인 전류-전압 특성 측정은 1.5 global(AM 1.5G), 100mW/cm2, 25℃ 기준으로 측정하였다. 본 연구에서는 Mo에 의해 CZTSSe 흡수층이 분해되어 후면전극 부근에 void와 secondary phases이 형성된다는 기존 모델과 상이한 결과를 실험적으로 도출하였고 그 원인은 sulfo-selenization annealing 중에 Mo 후면전극 부근에서 liquid metal과 기판과의 wetting property 때문임을 관련 실험과 성분 분석을 통해 확인하였다. 또한 기판의 상태를 달리하였을 경우, 기판의 상태와 liquid metal간의 bonding force 즉, wetting property 때문에 secondary phases와 void가 제어될 수 있음을 확인하였다. 즉, 금속기판 위의 liquid metal은 CZTSSe 흡수층이 형성될 때 strong metallic bonding으로 liquid metal의 이동도가 낮아 liquid metal이 기판 위에 일부 잔존하게 되면 잔존된 liquid metal이 결국 secondary phases와 void가 되는 것이다. 반대로 Al2O3 또는 소다라임 유리기판과 같은 ionocovalent 기판에서는 liquid metal과 weak Van Der Waals bonding으로 liquid metal이 남지 않게 되어 secondary phases 없이 void만 형성하게 된다. liquid metal과 기판 상태의 영향을 검증하기 위해 Sn을 4가지 상태의 기판에 증착하고 400℃, 10분간 Ar 분위기에서 reflow test를 실시하였다. wetting property가 좋은 metal 기판 위에서는 Sn은 넓게 퍼져 있으나 wetting property가 좋지 않은 기판, 즉, 소다라임 유리기판에서는 Sn은 뭉쳐 있는 것을 표면 이미징 분석을 통해 확인하였다. 또한 금속 기판과 소다라임 유리기판위에 CZTSSe 흡수층을 증착한 후 exfoliation 하여 표면 이미징 분석을 한 경우에도 CZTSSe 흡수층과 void의 형태가 wetting property에 따른 결과와 동일하였다. 중간층을 line으로 패터닝하여 CZTSSe 흡수층을 증착하면 중간층이 유무에 따라 확연하게 차이가 나타났다. 즉, 중간층이 있는 영역에서는 MoSSe layer가 성장되지 않거나 아주 얇게 성장되었으며 중간층 위에 큰 void가 형성되었다. 반면에 Mo가 접하는 영역에서는 두꺼운 MoSSe 박막이 성장되었고 중간층이 없는 표준시료 대비, secondary phases와 void는 없거나 감소하였다. Secondary phases가 없는 하부 CZTSSe 흡수층이 Mo가 접해 있는 영역으로 정렬할 수 있음을 확인하였다. 이와 같은 결과를 바탕으로 흡수층과 후면전극 사에 중간층을 삽입하여 태양전지를 제작하였는데 패터닝하지 않은 1nm 두께의 Al2O3 박막을 적용한 경우 효율이 2.04%로 대폭 감소하였다. 패턴의 모양을 line과 square로 구분하고 후면전극과 흡수층이 접하는 면적인 open ratio를 나누어 최종적으로 CZTSSe 태양전지를 제작하고 효율을 측정하였다. 우선 단면 이미징 분석에서 앞선 실험과 동일한 결과, 즉 중간층의 유무에 따라 secondary phases와 void가 제어됨을 확인할 수 있었으나 중간층이 없는 표준시료 대비, 효율은 개선되지 않았다. 전반적으로 효율이 낮아졌으며 특히, square pattern 샘플의 경우 open ratio가 감소함에 따라 효율이 비례하여 감소되는 경향을 확인하고 Tof-SIMS 분석을 통해 원인을 분석하였다. 이는 흡수층 내 Na intensity가 open ratio에 따라 감소하는 것을 확인하였고 그 이유는 소다라임 유리기판 내 Na이 흡수층으로 확산되는 것이 중간층 때문에 저지되었음을 추론하였다. 흡수층의 Na 함량 감소는 polycrystalline 특성에 영향을 주어 grain 크기를 감소시켰으며 개방전압, 충진율 및 효율 감소에 직접적인 영향을 주었다. 패턴된 중간층을 흡수층과 Mo 후면전극에 삽입할 경우 반드시 추가적인 NaF 박막 증착이 필요하며 흡수층의 두께와 미세한 조성변화 등도 최적화되어야 궁극적인 효율 개선에 기여할 수 있다.

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    The development of new and renewable energy is essential due to depletion of fossil fuels and environmental pollution, and the share of solar cells is rapidly increasing due to large climate change countermeasures to reduce greenhouse gas emissions. In the current commercialized silicon-based solar cell, CIGS research has been actively conducted as a compound-based solar cell in the face of limitations such as high production cost and flexible application. However, CIGS substitute In and Ga for reasons of toxicity and scarcity of constituent materials One CZTSSe solar cell is in the spotlight recently. CZTSSe solar cells refer to CZTS (Cu2ZnSnS4), CZTSe (Cu2ZnSnSe4), and CZTSSe (Cu2ZnSn(SxSe4-x)) having I2-II-IV-VI4 four-component compound structure. In 2014 IBM reported the highest efficiency of 12.6% with the hydrazine method, but the hydrazine solution process is difficult to manage due to the solution-based process, and there is a risk of explosion and mass production limitations. Research using 2-step sputtering process using metal precursor has been actively performed. Recently, DGIST reported a maximum efficiency of 12.6% with a 2-step sputtering process. Although the 2-step sputtering process using metal precursors is also suitable for mass production, the instability of the absorption layer, such as the double generation, secondary phases and void generation of the CZTSSe absorber and defects at the interface of the Mo back contact, Battery efficiency has not been reached yet. In this study, we investigate the formation mechanism of CZTSSe absorber using metal precursors and investigate how to control secondary phases and voids that are critical to the efficiency and the effect of patterned interlayer on CZTSSe solar cell efficiency. Based on the mechanism of generation of the CZTSSe absorber, the middle phases were applied on the Mo used as the back contact to compare the behavior of the secondary phases and the void between the Mo back contact and the CZTSSe absorber. In order to verify the wetting property between the Mo back contact and the CZTSSe absorber, we divided the Mo backside contact into four types and tested the wetting properties of the substrate with the liquid metal phases and void. The CZTSSe solar cell was fabricated by sputtering 600 nm thick Mo as a back contact on a soda lime glass substrate and sputtering three metal precursors on a CZTSSe absorber of about 1.8 μm thick. After selenization annealing, a 50 nm thick CdS thin film was deposited by a chemical bath deposition method and a 50 nm thick intrinsic ZnO thin film was deposited by sputtering. A 300 nm thick Al-doped ZnO (AZO) thin film was deposited by sputtering and then 10 nm thick Ni and 2 μm thick Al grid were deposited by e-beam evaporation. Finally, 100 nm MgF2 thin films were deposited by e-beam evaporation to fabricate CZTSSe solar cells. An Al2O3 thin film was deposited as an intermediate layer between the CZTSSe absorber and the Mo back contact by sputtering and plasma atomic layer deposition (PE-ALD). The thickness was varied from 1-5 nm in ALD and 130 nm by sputtering. The patterning was performed using a conventional photo-lithography method and the Al2O3 thin film was wet-etched with a BoE solution. The open ratio by patterning, that is, the area where the back contact Mo and the CZTSSe absorbing layer are in direct contact, was divided into 11% to 60%, and the pattern shape was classified into a line shape and a square shape. Imaging was obtained through FE-SEM and FE-TEM and elemental analysis was performed through EDS imaging analysis. The ToF-SIMS analysis was performed to analyze the exact components in the absorbent layer. The current-voltage characteristics of the solar cell were measured at 1.5 global (AM 1.5G), 100mW / cm2 and 25 °C.
    In this study, we have experimentally derived the different results from the previous model that the CZTSSe absorber is decomposed by Mo to form a void and secondary phases near the back contact. The reason for this is that during the sulfo-selenization annealing, And the wetting property of the water was confirmed by the related experiment and component analysis. It is also confirmed that the secondary phases and void can be controlled by the bonding state between the substrate and the liquid metal, that is, the wetting property. That is, the liquid metal on the metal substrate has a low mobility of liquid metal due to the strong metallic bonding when the CZTSSe absorber layer is formed, so that when the liquid metal is partially left on the substrate, the remaining liquid metal is finally voided with the secondary phases. Conversely, in an ionocovalent substrate such as Al2O3 or soda lime glass substrate, liquid metal and weak Van Der Waals bond do not leave liquid metal, and voids are formed without secondary phases. In order to verify the effect of liquid metal and substrate condition, Sn was deposited on four substrates and reflow test was carried out at 400 ℃ for 10 minutes in Ar atmosphere. In the substrate with good wetting property, Sn was spread widely but the wetting property was not good. In other words, on the soda lime glass substrate, the Sn was observed through the surface imaging analysis. Also, when CZTSSe absorber was deposited on a metal substrate and a soda lime glass substrate and exfoliation was performed, the shape of the CZTSSe absorber and void were the same as those of the wetting property. When the CZTSSe absorber was deposited by patterning the middle layer into a line, there was a significant difference depending on the presence or absence of the intermediate layer. That is, the MoSSe layer was not grown or very thin in the middle layer region, and a large void was formed on the middle layer. On the other hand, in the region of Mo contact, thick MoSSe thin films were grown and the secondary phases and voids were absent or decreased compared to the standard samples without an intermediate layer. It was confirmed that the lower CZTSSe absorber layer without secondary phases can be aligned to the region where Mo is in contact. Based on these results, we fabricated the solar cell by inserting the middle layer into the absorber layer and the backside contact. The efficiency of the solar cell was reduced to 2.04% when 1 nm thick Al2O3 thin film was used. The shape of the pattern was divided into lines and squares, and the open ratio, the area of contact between the back contact and the absorbing layer, was divided to fabricate the CZTSSe solar cell and the efficiency was measured. First, we confirmed that the secondary phases and void were controlled according to the same result as the previous experiment in the cross-section imaging analysis, that is, the presence or absence of the intermediate layer, but the efficiency was not improved compared to the standard sample without the intermediate layer. In general, the efficiency was lowered. In particular, the square pattern sample showed a tendency that the efficiency decreased proportionally as the open ratio decreased, and the cause was analyzed by Tof-SIMS analysis. It was confirmed that the Na intensity in the absorber layer decreased with the open ratio because the diffusion of Na in the soda lime glass substrate to the absorber layer was inhibited by the middle layer. Decreasing the Na content of the absorber layer affected the polycrystalline properties, which reduced the grain size and directly affected the open-circuit voltage, filling rate and efficiency. When the patterned intermediate layer is inserted into the absorber layer and the Mo back contact, additional NaF thin film deposition is required, and the thickness of the absorption layer and the fine compositional change must be optimized to ultimately improve the efficiency.

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    • 1. Introduction 1
    • 1.1 Importance of renewable energy 1
    • 1.2 Objective 8
    • 1.3 Outline of thesis 8
    • 2. Background of knowledge 10
    • 2.1 Thin film solar cells 10
    • 2.1.1 Cadmium telluride (CdTe) 10
    • 2.1.2 Amorphous silicon (a-Si) 11
    • 2.1.3 Copper indium gallium selenide (CIGS) 12
    • 2.2 Material properties of CZTS 14
    • 2.2.1 Crystal structure and phase diagram 14
    • 2.2.2 Optical and electronic properties 17
    • 2.2.3 Device architecture 18
    • 2.3 CZTSSe deposition methods 23
    • 2.3.1 Sputtering methods 24
    • 2.3.2 Evaporation methods 25
    • 2.3.3 Pulsed laser deposition method 26
    • 2.3.4 Spray pyrolysis method 26
    • 2.3.5 Electrochemical deposition 27
    • 2.3.6 Sol-gel spin coating method 28
    • 2.3.7 Chemical bath deposition method (CBD) 28
    • 2.3.8 Nanocrystal synthesizing methods 29
    • 2.4 CZTSSe absorber characterization by sputtering using metal precursors 29
    • 2.4.1 Void and secondary phases in CZTSSe solar cell 29
    • 2.4.2 Formation mechanism of void and secondary phases 34
    • 3. Experimental and characterization techniques 39
    • 3.1 Preparation of CZTSSe solar cell 39
    • 3.1.1 Sputtering 43
    • 3.2.2 Sulfo-selenization RTP 45
    • 3.2.3 Atomic layer Deposition 46
    • 3.3 Characterization equipment 47
    • 3.3.1 Field Emission Scanning Electron Microscope 47
    • 3.3.2 Field Emission Transmission Electron Microscope 49
    • 3.3.3 STEM-EDS 50
    • 4. Self-alignment of bottom CZTSSe on the patterned intermediate layer and secondary phases and void formation 53
    • 4.1 Introduction 53
    • 4.2 Experimental details 57
    • 4.3 Results and discussion 59
    • 4.4 Summary 78
    • 5. Effect of open ratio of back contact on CZTSSe solar cell efficiency 80
    • 5.1 Introduction 80
    • 5.2 Experimental details 86
    • 5.3 Results and discussion 89
    • 5.4 Summary 97
    • 6. Conclusion 99
    • References 101
    • (Abstract) 116
    • (국문 초록) 120
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                          4. ④ 단말기 : 서비스 제공을 받기 위해 이용자가 설치한 개인용 컴퓨터 및 모뎀 등의 기기
                          5. ⑤ 서비스 이용 : 이용자가 단말기를 이용하여 교육정보원의 주전산기에 접속하여 교육정보원이 제공하는 정보를 이용하는 것
                          6. ⑥ 이용계약 : 서비스를 제공받기 위하여 이 약관으로 교육정보원과 이용자간의 체결하는 계약을 말함
                          7. ⑦ 마일리지 : RISS 서비스 중 마일리지 적립 가능한 서비스를 이용한 이용자에게 지급되며, RISS가 제공하는 특정 디지털 콘텐츠를 구입하는 데 사용하도록 만들어진 포인트
                      2. 제 2 장 서비스 이용 계약

                        1. 제 5 조 (이용계약의 성립)

                          1. ① 이용계약은 이용자의 이용신청에 대한 교육정보원의 이용 승낙에 의하여 성립됩니다.
                          2. ② 제 1항의 규정에 의해 이용자가 이용 신청을 할 때에는 교육정보원이 이용자 관리시 필요로 하는
                            사항을 전자적방식(교육정보원의 컴퓨터 등 정보처리 장치에 접속하여 데이터를 입력하는 것을 말합니다)
                            이나 서면으로 하여야 합니다.
                          3. ③ 이용계약은 이용자번호 단위로 체결하며, 체결단위는 1 이용자번호 이상이어야 합니다.
                          4. ④ 서비스의 대량이용 등 특별한 서비스 이용에 관한 계약은 별도의 계약으로 합니다.
                        2. 제 6 조 (이용신청)

                          1. ① 서비스를 이용하고자 하는 자는 교육정보원이 지정한 양식에 따라 온라인신청을 이용하여 가입 신청을 해야 합니다.
                          2. ② 이용신청자가 14세 미만인자일 경우에는 친권자(부모, 법정대리인 등)의 동의를 얻어 이용신청을 하여야 합니다.
                        3. 제 7 조 (이용계약 승낙의 유보)

                          1. ① 교육정보원은 다음 각 호에 해당하는 경우에는 이용계약의 승낙을 유보할 수 있습니다.
                            1. 1. 설비에 여유가 없는 경우
                            2. 2. 기술상에 지장이 있는 경우
                            3. 3. 이용계약을 신청한 사람이 14세 미만인 자로 친권자의 동의를 득하지 않았을 경우
                            4. 4. 기타 교육정보원이 서비스의 효율적인 운영 등을 위하여 필요하다고 인정되는 경우
                          2. ② 교육정보원은 다음 각 호에 해당하는 이용계약 신청에 대하여는 이를 거절할 수 있습니다.
                            1. 1. 다른 사람의 명의를 사용하여 이용신청을 하였을 때
                            2. 2. 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재하였을 때
                        4. 제 8 조 (계약사항의 변경)

                          이용자는 다음 사항을 변경하고자 하는 경우 서비스에 접속하여 서비스 내의 기능을 이용하여 변경할 수 있습니다.
                          1. ① 성명 및 생년월일, 신분, 이메일
                          2. ② 비밀번호
                          3. ③ 자료신청 / 기관회원서비스 권한설정을 위한 이용자정보
                          4. ④ 전화번호 등 개인 연락처
                          5. ⑤ 기타 교육정보원이 인정하는 경미한 사항
                      3. 제 3 장 서비스의 이용

                        1. 제 9 조 (서비스 이용시간)

                          • 서비스의 이용 시간은 교육정보원의 업무 및 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간(00:00-24:00)을 원칙으로 합니다. 다만 정기점검등의 필요로 교육정보원이 정한 날이나 시간은 그러하지 아니합니다.
                        2. 제 10 조 (이용자번호 등)

                          1. ① 이용자번호 및 비밀번호에 대한 모든 관리책임은 이용자에게 있습니다.
                          2. ② 명백한 사유가 있는 경우를 제외하고는 이용자가 이용자번호를 공유, 양도 또는 변경할 수 없습니다.
                          3. ③ 이용자에게 부여된 이용자번호에 의하여 발생되는 서비스 이용상의 과실 또는 제3자에 의한 부정사용 등에 대한 모든 책임은 이용자에게 있습니다.
                        3. 제 11 조 (서비스 이용의 제한 및 이용계약의 해지)

                          1. ① 이용자가 서비스 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 온라인으로 교육정보원에 해지신청을 하여야 합니다.
                          2. ② 교육정보원은 이용자가 다음 각 호에 해당하는 경우 사전통지 없이 이용계약을 해지하거나 전부 또는 일부의 서비스 제공을 중지할 수 있습니다.
                            1. 1. 타인의 이용자번호를 사용한 경우
                            2. 2. 다량의 정보를 전송하여 서비스의 안정적 운영을 방해하는 경우
                            3. 3. 수신자의 의사에 반하는 광고성 정보, 전자우편을 전송하는 경우
                            4. 4. 정보통신설비의 오작동이나 정보 등의 파괴를 유발하는 컴퓨터 바이러스 프로그램등을 유포하는 경우
                            5. 5. 정보통신윤리위원회로부터의 이용제한 요구 대상인 경우
                            6. 6. 선거관리위원회의 유권해석 상의 불법선거운동을 하는 경우
                            7. 7. 서비스를 이용하여 얻은 정보를 교육정보원의 동의 없이 상업적으로 이용하는 경우
                            8. 8. 비실명 이용자번호로 가입되어 있는 경우
                            9. 9. 일정기간 이상 서비스에 로그인하지 않거나 개인정보 수집․이용에 대한 재동의를 하지 않은 경우
                          3. ③ 전항의 규정에 의하여 이용자의 이용을 제한하는 경우와 제한의 종류 및 기간 등 구체적인 기준은 교육정보원의 공지, 서비스 이용안내, 개인정보처리방침 등에서 별도로 정하는 바에 의합니다.
                          4. ④ 해지 처리된 이용자의 정보는 법령의 규정에 의하여 보존할 필요성이 있는 경우를 제외하고 지체 없이 파기합니다.
                          5. ⑤ 해지 처리된 이용자번호의 경우, 재사용이 불가능합니다.
                        4. 제 12 조 (이용자 게시물의 삭제 및 서비스 이용 제한)

                          1. ① 교육정보원은 서비스용 설비의 용량에 여유가 없다고 판단되는 경우 필요에 따라 이용자가 게재 또는 등록한 내용물을 삭제할 수 있습니다.
                          2. ② 교육정보원은 서비스용 설비의 용량에 여유가 없다고 판단되는 경우 이용자의 서비스 이용을 부분적으로 제한할 수 있습니다.
                          3. ③ 제 1 항 및 제 2 항의 경우에는 당해 사항을 사전에 온라인을 통해서 공지합니다.
                          4. ④ 교육정보원은 이용자가 게재 또는 등록하는 서비스내의 내용물이 다음 각호에 해당한다고 판단되는 경우에 이용자에게 사전 통지 없이 삭제할 수 있습니다.
                            1. 1. 다른 이용자 또는 제 3자를 비방하거나 중상모략으로 명예를 손상시키는 경우
                            2. 2. 공공질서 및 미풍양속에 위반되는 내용의 정보, 문장, 도형 등을 유포하는 경우
                            3. 3. 반국가적, 반사회적, 범죄적 행위와 결부된다고 판단되는 경우
                            4. 4. 다른 이용자 또는 제3자의 저작권 등 기타 권리를 침해하는 경우
                            5. 5. 게시 기간이 규정된 기간을 초과한 경우
                            6. 6. 이용자의 조작 미숙이나 광고목적으로 동일한 내용의 게시물을 10회 이상 반복하여 등록하였을 경우
                            7. 7. 기타 관계 법령에 위배된다고 판단되는 경우
                        5. 제 13 조 (서비스 제공의 중지 및 제한)

                          1. ① 교육정보원은 다음 각 호에 해당하는 경우 서비스 제공을 중지할 수 있습니다.
                            1. 1. 서비스용 설비의 보수 또는 공사로 인한 부득이한 경우
                            2. 2. 전기통신사업법에 규정된 기간통신사업자가 전기통신 서비스를 중지했을 때
                          2. ② 교육정보원은 국가비상사태, 서비스 설비의 장애 또는 서비스 이용의 폭주 등으로 서비스 이용에 지장이 있는 때에는 서비스 제공을 중지하거나 제한할 수 있습니다.
                        6. 제 14 조 (교육정보원의 의무)

                          1. ① 교육정보원은 교육정보원에 설치된 서비스용 설비를 지속적이고 안정적인 서비스 제공에 적합하도록 유지하여야 하며 서비스용 설비에 장애가 발생하거나 또는 그 설비가 못쓰게 된 경우 그 설비를 수리하거나 복구합니다.
                          2. ② 교육정보원은 서비스 내용의 변경 또는 추가사항이 있는 경우 그 사항을 온라인을 통해 서비스 화면에 공지합니다.
                        7. 제 15 조 (개인정보보호)

                          1. ① 교육정보원은 공공기관의 개인정보보호에 관한 법률, 정보통신이용촉진등에 관한 법률 등 관계법령에 따라 이용신청시 제공받는 이용자의 개인정보 및 서비스 이용중 생성되는 개인정보를 보호하여야 합니다.
                          2. ② 교육정보원의 개인정보보호에 관한 관리책임자는 학술연구정보서비스 이용자 관리담당 부서장(학술정보본부)이며, 주소 및 연락처는 대구광역시 동구 동내로 64(동내동 1119) KERIS빌딩, 전화번호 054-714-0114번, 전자메일 privacy@keris.or.kr 입니다. 개인정보 관리책임자의 성명은 별도로 공지하거나 서비스 안내에 게시합니다.
                          3. ③ 교육정보원은 개인정보를 이용고객의 별도의 동의 없이 제3자에게 제공하지 않습니다. 다만, 다음 각 호의 경우는 이용고객의 별도 동의 없이 제3자에게 이용 고객의 개인정보를 제공할 수 있습니다.
                            1. 1. 수사상의 목적에 따른 수사기관의 서면 요구가 있는 경우에 수사협조의 목적으로 국가 수사 기관에 성명, 주소 등 신상정보를 제공하는 경우
                            2. 2. 신용정보의 이용 및 보호에 관한 법률, 전기통신관련법률 등 법률에 특별한 규정이 있는 경우
                            3. 3. 통계작성, 학술연구 또는 시장조사를 위하여 필요한 경우로서 특정 개인을 식별할 수 없는 형태로 제공하는 경우
                          4. ④ 이용자는 언제나 자신의 개인정보를 열람할 수 있으며, 스스로 오류를 수정할 수 있습니다. 열람 및 수정은 원칙적으로 이용신청과 동일한 방법으로 하며, 자세한 방법은 공지, 이용안내에 정한 바에 따릅니다.
                          5. ⑤ 이용자는 언제나 이용계약을 해지함으로써 개인정보의 수집 및 이용에 대한 동의, 목적 외 사용에 대한 별도 동의, 제3자 제공에 대한 별도 동의를 철회할 수 있습니다. 해지의 방법은 이 약관에서 별도로 규정한 바에 따릅니다.
                        8. 제 16 조 (이용자의 의무)

                          1. ① 이용자는 서비스를 이용할 때 다음 각 호의 행위를 하지 않아야 합니다.
                            1. 1. 다른 이용자의 이용자번호를 부정하게 사용하는 행위
                            2. 2. 서비스를 이용하여 얻은 정보를 교육정보원의 사전승낙없이 이용자의 이용이외의 목적으로 복제하거나 이를 출판, 방송 등에 사용하거나 제3자에게 제공하는 행위
                            3. 3. 다른 이용자 또는 제3자를 비방하거나 중상모략으로 명예를 손상하는 행위
                            4. 4. 공공질서 및 미풍양속에 위배되는 내용의 정보, 문장, 도형 등을 타인에게 유포하는 행위
                            5. 5. 반국가적, 반사회적, 범죄적 행위와 결부된다고 판단되는 행위
                            6. 6. 다른 이용자 또는 제3자의 저작권등 기타 권리를 침해하는 행위
                            7. 7. 기타 관계 법령에 위배되는 행위
                          2. ② 이용자는 이 약관에서 규정하는 사항과 서비스 이용안내 또는 주의사항을 준수하여야 합니다.
                          3. ③ 이용자가 설치하는 단말기 등은 전기통신설비의 기술기준에 관한 규칙이 정하는 기준에 적합하여야 하며, 서비스에 장애를 주지 않아야 합니다.
                        9. 제 17 조 (광고의 게재)

                          교육정보원은 서비스의 운용과 관련하여 서비스화면, 홈페이지, 전자우편 등에 광고 등을 게재할 수 있습니다.
                      4. 제 4 장 서비스 이용 요금

                        1. 제 18 조 (이용요금)

                          1. ① 서비스 이용료는 기본적으로 무료로 합니다. 단, 민간업체와의 협약에 의해 RISS를 통해 서비스 되는 콘텐츠의 경우 각 민간 업체의 요금 정책에 따라 유료로 서비스 합니다.
                          2. ② 그 외 교육정보원의 정책에 따라 이용 요금 정책이 변경될 경우에는 온라인으로 서비스 화면에 게시합니다.
                      5. 제 5 장 마일리지 정책

                        1. 제 19 조 (마일리지 정책의 변경)

                          1. ① RISS 마일리지는 2017년 1월부로 모두 소멸되었습니다.
                          2. ② 교육정보원은 마일리지 적립ㆍ사용ㆍ소멸 등 정책의 변경에 대해 온라인상에 공지해야하며, 최근에 온라인에 등재된 내용이 이전의 모든 규정과 조건보다 우선합니다.
                      6. 제 6 장 저작권

                        1. 제 20 조 (게재된 자료에 대한 권리)

                          서비스에 게재된 자료에 대한 권리는 다음 각 호와 같습니다.
                          1. ① 게시물에 대한 권리와 책임은 게시자에게 있으며, 교육정보원은 게시자의 동의 없이는 이를 영리적 목적으로 사용할 수 없습니다.
                          2. ② 게시자의 사전 동의가 없이는 이용자는 서비스를 이용하여 얻은 정보를 가공, 판매하는 행위 등 서비스에 게재된 자료를 상업적 목적으로 이용할 수 없습니다.
                      7. 제 7 장 이의 신청 및 손해배상 청구 금지

                        1. 제 21 조 (이의신청금지)

                          이용자는 교육정보원에서 제공하는 서비스 이용시 발생되는 어떠한 문제에 대해서도 무료 이용 기간 동안은 이의 신청 및 민원을 제기할 수 없습니다.
                        2. 제 22 조 (손해배상청구금지)

                          이용자는 교육정보원에서 제공하는 서비스 이용시 발생되는 어떠한 문제에 대해서도 무료 이용 기간 동안은 교육정보원 및 관계 기관에 손해배상 청구를 할 수 없으며 교육정보원은 이에 대해 책임을 지지 아니합니다.
                      8. 부칙

                        이 약관은 2000년 6월 1일부터 시행합니다.
                      9. 부칙(개정 2005. 5. 31)

                        이 약관은 2005년 5월 31일부터 시행합니다.
                      10. 부칙(개정 2010. 1. 1)

                        이 약관은 2010년 1월 1일부터 시행합니다.
                      11. 부칙(개정 2010. 4 1)

                        이 약관은 2010년 4월 1일부터 시행합니다.
                      12. 부칙(개정 2017. 1 1)

                        이 약관은 2017년 1월 1일부터 시행합니다.

                      학술연구정보서비스 개인정보처리방침

                      Ver 8.6 (2023년 1월 31일 ~ )

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                      나. 다만, 다음의 사유에 해당하는 경우에는 해당 사유 종료시 까지 정보를 보유 및 열람합니다.
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                      5년

                      (「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한
                                 법률」 제 6조 및 시행령 제 6조)
                                - 소비자의 불만 또는 분쟁 처리에 관한 기록 :

                      3년

                      (「전자상거래 등에서의 소비자보호에 관한
                                 법률」 제 6조 및 시행령 제 6조)
                                - 접속에 관한 기록 :

                      2년

                      이상(개인정보보호위원회 : 개인정보의 안전성 확보조치 기준)
                      처리 항목제3조(처리하는 개인정보의 항목)
                      가. 필수 항목 : ID, 이름, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야,
                           보호자 성명(어린이회원), 보호자 이메일(어린이회원)
                      나: 선택 항목 : 소속기관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 전화, 주소, 장애인 여부
                      다. 자동수집항목 : IP주소, ID, 서비스 이용기록, 방문기록
                      개인 정보제4조(개인정보파일 등록 현황)
                      개인정보파일의 명칭 운영근거 / 처리목적 개인정보파일에 기록되는 개인정보의 항목 보유기간
                      학술연구정보서비스 이용자 가입정보 파일 한국교육학술정보원법 필수 ID, 비밀번호, 성명, 생년월일, 신분(직업구분), 이메일, 소속분야, 웹진메일 수신동의 여부 3년
                      또는
                      탈퇴시
                      선택 소속기관명, 소속도서관명, 학과/부서명, 학번/직원번호, 휴대전화, 주소
                      제3자 제공제5조(개인정보의 제3자 제공)
                      가. RISS는 원칙적으로 정보주체의 개인정보를 제1조(개인정보의 처리 목적)에서 명시한 범위 내에서
                           처리하며, 정보주체의 사전 동의 없이는 본래의 범위를 초과하여 처리하거나 제3자에게 제공하지
                           않습니다. 단, 정보주체의 동의, 법률의 특별한 규정 등 개인정보 보호법 제17조 및 제18조에 해당하는
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                      가. 위탁하는 업무 내용 : 회원 개인정보 처리
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                      위탁업무의 내용이나 수탁자가 변경될 경우에는 지체 없이 본 개인정보 처리방침을 통하여 공개하도록 하겠습니다.
                      파기제7조(개인정보의 파기 절차 및 방법)
                      가. 파기절차
                           - 개인정보의 파기 : 보유기간이 경과한 개인정보는 종료일로부터 지체 없이 파기
                           - 개인정보파일의 파기 : 개인정보파일의 처리 목적 달성, 해당 서비스의 폐지, 사업의 종료 등 그
                            개인정보파일이 불필요하게 되었을 때에는 개인정보의 처리가 불필요한 것으로 인정되는 날로부터
                            지체 없이 그 개인정보파일을 파기.
                      나. 파기방법
                           - 전자적 형태의 정보는 기록을 재생할 수 없는 기술적 방법을 사용하여 파기.
                           - 종이에 출력된 개인정보는 분쇄기로 분쇄하거나 소각을 통하여 파기.
                      정보주체의 권리의무제8조(정보주체와 법정대리인의 권리·의무 및 그 행사 방법)
                      정보주체(만 14세 미만인 경우에는 법정대리인을 말함)는 개인정보주체로서 다음과 같은 권리를 행사할 수 있습니다.
                      가. 권리 행사 항목 및 방법
                           - 권리 행사 항목: 개인정보 열람 요구, 오류 정정 요구, 삭제 요구, 처리정지 요구
                           - 권리 행사 방법: 개인정보 처리 방법에 관한 고시 별지 제8호(대리인의 경우 제11호) 서식에 따라
                            작성 후 서면, 전자우편, 모사전송(FAX), 전화, 인터넷(홈페이지 고객센터) 제출
                      나. 개인정보 열람 및 처리정지 요구는 「개인정보 보호법」 제35조 제5항, 제37조 제2항에 의하여
                            정보주체의 권리가 제한 될 수 있음
                      다. 개인정보의 정정 및 삭제 요구는 다른 법령에서 그 개인정보가 수집 대상으로 명시되어 있는 경우에는
                            그 삭제를 요구할 수 없음
                      라. RISS는 정보주체 권리에 따른 열람의 요구, 정정·삭제의 요구, 처리정지의 요구 시
                            열람 등 요구를 한 자가 본인이거나 정당한 대리인인지를 확인함.
                      마. 정보주체의 권리행사 요구 거절 시 불복을 위한 이의제기 절차는 다음과 같습니다.
                           1) 해당 부서에서 열람 등 요구에 대한 연기 또는 거절 시 요구 받은 날로부터 10일 이내에 정당한 사유
                              및 이의제기 방법 등을 통지
                           2) 해당 부서에서 정보주체의 이의제기 신청 및 접수(서면, 유선, 이메일 등)하여 개인정보보호 담당자가
                              내용 확인
                           3) 개인정보관리책임자가 처리결과에 대한 최종 검토
                           4) 해당부서에서 정보주체에게 처리결과 통보
                      *. [교육부 개인정보 보호지침 별지 제1호] 개인정보 (열람, 정정·삭제, 처리정지) 요구서
                      *. [교육부 개인정보 보호지침 별지 제2호] 위임장
                      안전성확보조치제9조(개인정보의 안전성 확보조치)
                      가. 내부관리계획의 수립 및 시행 : RISS의 내부관리계획 수립 및 시행은 한국교육학술정보원의 내부
                            관리 지침을 준수하여 시행.
                      나. 개인정보 취급 담당자의 최소화 및 교육
                           - 개인정보를 취급하는 분야별 담당자를 지정․운영
                           - 한국교육학술정보원의 내부 관리 지침에 따른 교육 실시
                      다. 개인정보에 대한 접근 제한
                           - 개인정보를 처리하는 데이터베이스시스템에 대한 접근권한의 부여, 변경, 말소를 통하여
                           개인정보에 대한 접근통제 실시
                           - 침입차단시스템, ID/패스워드 및 공인인증서 확인을 통한 접근 통제 등 보안시스템 운영
                      라. 접속기록의 보관 및 위변조 방지
                           - 개인정보처리시스템에 접속한 기록(웹 로그, 요약정보 등)을 2년 이상 보관, 관리
                           - 접속 기록이 위변조 및 도난, 분실되지 않도록 보안기능을 사용
                      마. 개인정보의 암호화 : 이용자의 개인정보는 암호화 되어 저장 및 관리
                      바. 해킹 등에 대비한 기술적 대책
                           - 보안프로그램을 설치하고 주기적인 갱신·점검 실시
                           - 외부로부터 접근이 통제된 구역에 시스템을 설치하고 기술적/물리적으로 감시 및 차단
                      사. 비인가자에 대한 출입 통제
                           - 개인정보를 보관하고 있는 개인정보시스템의 물리적 보관 장소를 별도 설치․운영
                           - 물리적 보관장소에 대한 출입통제, CCTV 설치․운영 절차를 수립, 운영
                      자동화 수집제10조(개인정보 자동 수집 장치의 설치·운영 및 거부)
                      가. 정보주체의 이용정보를 저장하고 수시로 불러오는 ‘쿠키(cookie)’를 사용합니다.
                      나. 쿠키는 웹사이트를 운영하는데 이용되는 서버(http)가 이용자의 컴퓨터브라우저에게 보내는 소량의
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                                - Edge : 웹브라우저 우측 상단의 설정 메뉴 > 쿠키 및 사이트 권한 > 쿠키 및 사이트 데이터
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                           이메일 : giltizen@keris.or.kr
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                            담당자 : 길원진
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